发明授权
CN101880859B 溅射标靶
失效 - 权利终止
- 专利标题： 溅射标靶
- 专利标题（英）： Sputtering target
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申请号： CN201010171589.3申请日： 2005-12-20
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公开(公告)号： CN101880859B公开(公告)日： 2013-03-27
- 发明人: 井上一吉 , 松原雅人 , 田中信夫 , 松崎滋夫 , 矢野公规
- 申请人： 出光兴产株式会社
- 申请人地址： 日本国东京都
- 专利权人： 出光兴产株式会社
- 当前专利权人： 出光兴产株式会社
- 当前专利权人地址： 日本国东京都
- 代理机构： 中科专利商标代理有限责任公司
- 代理商 李贵亮
- 优先权： 2005-005499 2005.01.12 JP; 2005-005569 2005.01.12 JP; 2005-005637 2005.01.12 JP; 2005-017748 2005.01.26 JP
- 分案原申请号： 2005800463271 2005.12.20
- 主分类号： C23C14/34
- IPC分类号： C23C14/34 ; C23C14/08
摘要：
本发明提供一种溅射标靶，其是以锌及锡的氧化物作为主成分的氧化物，表示其氧化物的组成的[Zn]/([Zn]+[Sn])处于大于0.40且小于0.97的范围，其中，[Zn]表示锌原子的数量、[Sn]表示锡原子的数量。
公开/授权文献
- CN101880859A 溅射标靶 公开/授权日：2010-11-10
IPC分类:
