发明授权
- 专利标题： 基于接触线移动跟踪控制的高吞吐量刻印
- 专利标题（英）： High throughput imprint based on contact line motion tracking control
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申请号： CN200880119657.2申请日： 2008-12-04
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公开(公告)号： CN101884019B公开(公告)日： 2012-12-26
- 发明人: 吕晓明 , P·D·苏马克
- 申请人： 分子制模股份有限公司
- 申请人地址： 美国得克萨斯州
- 专利权人： 分子制模股份有限公司
- 当前专利权人： 分子制模股份有限公司
- 当前专利权人地址： 美国得克萨斯州
- 代理机构： 上海专利商标事务所有限公司
- 代理商 李玲
- 优先权： 61/005,297 2007.12.04 US; 12/327,618 2008.12.03 US
- 国际申请： PCT/US2008/013362 2008.12.04
- 国际公布： WO2009/073200 EN 2009.06.11
- 进入国家日期： 2010-06-03
- 主分类号： G05B19/18
- IPC分类号： G05B19/18
摘要：
描述了在刻印可聚合的材料期间用于控制模板与基板之间的接触线的速度以及高度分布的系统和方法。
公开/授权文献
- CN101884019A 基于接触线移动跟踪控制的高吞吐量刻印 公开/授权日：2010-11-10
IPC分类:
