发明授权
- 专利标题: 氧化物半导体薄膜晶体管
- 专利标题(英): Oxide semiconductor thin-film transistor
-
申请号: CN200880118787.4申请日: 2008-11-27
-
公开(公告)号: CN101884110B公开(公告)日: 2014-11-05
- 发明人: 岛田干夫
- 申请人: 佳能株式会社
- 申请人地址: 日本东京
- 专利权人: 佳能株式会社
- 当前专利权人: 佳能株式会社
- 当前专利权人地址: 日本东京
- 代理机构: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
- 代理商 魏小薇
- 优先权: 2007-313578 2007.12.04 JP
- 国际申请: PCT/JP2008/071990 2008.11.27
- 国际公布: WO2009/072533 EN 2009.06.11
- 进入国家日期: 2010-06-01
- 主分类号: H01L29/786
- IPC分类号: H01L29/786
摘要:
本发明涉及一种氧化物半导体薄膜晶体管,该晶体管包含:基板上的栅电极、栅绝缘层、包含非晶氧化物的半导体层、源漏电极、以及保护层。所述半导体层包含与形成有所述源漏电极的区域相对应的第一区域和不与形成有所述源漏电极的区域相对应的第二区域。至少所述第一区域包含组分与第二区域中的非晶氧化物的组分不同的结晶成分。
公开/授权文献
- CN101884110A 氧化物半导体薄膜晶体管 公开/授权日:2010-11-10
IPC分类: