利索-全球专利检索

  1. 登录
  2. 注册
发明公开
CN101916037A 纳米压印光刻中精密表面改性方法和设备 无效 - 撤回

  • 专利标题： 纳米压印光刻中精密表面改性方法和设备
  • 专利标题（英）： Method and apparatus for precision surface modification in nano-imprint lithography
  • 申请号： CN200910179464.2
    申请日： 2009-10-20
  • 公开(公告)号： CN101916037A
    公开(公告)日： 2010-12-15
  • 发明人: 许仁 , C·T·彼得森 , C·刘
  • 申请人： 因特瓦克公司
  • 申请人地址： 美国加利福尼亚
  • 专利权人： 因特瓦克公司
  • 当前专利权人： 因特瓦克公司
  • 当前专利权人地址： 美国加利福尼亚
  • 代理机构： 永新专利商标代理有限公司
  • 代理商 王琼先; 王永建
  • 优先权： 61/107,265 2008.10.21 US; 12/572,224 2009.10.01 US
  • 主分类号： G03F7/00
  • IPC分类号： G03F7/00
纳米压印光刻中精密表面改性方法和设备
摘要：
一种可规模化的高生产量的纳米压印光刻涂底设备，包括：双反应物化学气相沉积反应器腔室，被构造成以硬盘半径来保持多个硬盘的芯轴，以及将多个硬盘转移到所述腔室中以及从所述腔室中转移出的传输机构。所述设备也可以包括转移工具，以将所述多个硬盘移至额外的腔室进行处理。
摘要（英）：

A scalable, high-throughput nanoimprint lithography priming tool includes a dual-reactant chemical vapor deposition reactor chamber, a mandrel configured to hold a plurality of hard disks at an inner diameter of the hard disks, and a transport mechanism to move the plurality of hard disks into and out of the chamber. The tool may also include a transfer tool to transfer the plurality of hard disks to additional chambers for processing.

0/0