过渡金属镍、钴氧化物纳米线阵列制备方法
摘要:
过渡金属镍、钴氧化物纳米线阵列制备方法属于纳米材料技术领域。现有技术采用化学方法制备NiO纳米材料,但是,所制备的NiO纳米线排列混乱,未形成良好的阵列形貌。本发明采用管式炉、真空管等进行制备,将过渡金属衬底置于真空管中,将过渡金属氯化物等重量地分别置于两个一端封闭的管状容器中,并将这两个管状容器也置于真空管中,这两个管状容器的开口端相对朝向过渡金属衬底两侧边缘;将真空管放入管式炉中,启动真空泵使真空管内腔处在真空状态;管式炉升温至500~700℃,自进气管通入O2/Ar混合气体,O2占混合气体体积的5~15%,继续升温至刻蚀温度,刻蚀温度在900~980℃范围内确定,保持10~30分钟。
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