发明授权
- 专利标题： 光刻设备和器件制造方法
- 专利标题（英）： Lithographic apparatus and device manufacturing method
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申请号： CN200980123070.3申请日： 2009-07-22
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公开(公告)号： CN102067039B公开(公告)日： 2014-04-09
- 发明人: J·奥腾斯 , J·雅各布斯
- 申请人： ASML荷兰有限公司
- 申请人地址： 荷兰维德霍温
- 专利权人： ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人： ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人地址： 荷兰维德霍温
- 代理机构： 中科专利商标代理有限责任公司
- 代理商 王波波
- 优先权： 61/136,046 2008.08.08 US
- 国际申请： PCT/EP2009/059413 2009.07.22
- 国际公布： WO2010/015511 EN 2010.02.11
- 进入国家日期： 2010-12-17
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20
摘要：
物体支撑结构构造成支撑物体。物体支撑结构包括回填结构，构造成供给热缓冲流体至物体支撑结构并从物体支撑结构抽取热缓冲流体。回填结构连接至抽取管道，其构造并布置成从回填结构抽取至少气相的热缓冲流体。回填结构连接至供给管道，构造并布置成供给液相热缓冲流体至回填结构。回填结构布置成使得热缓冲流体成为气相和液相的组合的状态，以与物体热接触。
公开/授权文献
- CN102067039A 光刻设备和器件制造方法 公开/授权日：2011-05-18
IPC分类:
