发明授权
- 专利标题： 超精细图案化掩模、其生产方法以及将其用于形成超精细图案的方法
- 专利标题（英）： Fine pattern mask, method for producing the same, and method for forming fine pattern using the mask
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申请号： CN200980103216.8申请日： 2009-01-27
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公开(公告)号： CN102084300B公开(公告)日： 2013-03-27
- 发明人: 高野祐辅 , 季晋 , 石川智规 , 能谷刚
- 申请人： AZ电子材料IP(日本)株式会社
- 申请人地址： 日本国东京都
- 专利权人： AZ电子材料IP(日本)株式会社
- 当前专利权人： 默克专利有限公司
- 当前专利权人地址： 日本国东京都
- 代理机构： 北京三幸商标专利事务所
- 代理商 刘激扬
- 优先权： 2008-016552 2008.01.28 JP
- 国际申请： PCT/JP2009/051234 2009.01.27
- 国际公布： WO2009/096371 JA 2009.08.06
- 进入国家日期： 2010-07-27
- 主分类号： G03F7/40
- IPC分类号： G03F7/40 ; H01L21/027
摘要：
本发明提供了一种超精细图案形成方法，其可以简便地以高规模化生产率来生产超精细图案。该方法中，在待处理薄膜上形成第一凸起图案；在凸起图案的侧面上形成由含硅氮烷键的树脂组合物形成的隔体；通过使用隔体或设置在隔体周围的树脂层作为掩模来形成超精细图案。该隔体通过仅在第一凸起图案周围的部分固化均匀涂覆的树脂组合物来形成。因此，可以形成与常规图案形成方法相比更加精细的图案。
公开/授权文献
- CN102084300A 超精细图案化掩模、其生产方法以及将其用于形成超精细图案的方法 公开/授权日：2011-06-01
IPC分类:
