公开(公告)号：CN102084300B

公开(公告)日：2013-03-27

申请号：CN200980103216.8

申请日：2009-01-27

申请人： AZ电子材料IP(日本)株式会社

发明人： 高野祐辅 ,  季晋 ,  石川智规 ,  能谷刚

IPC分类号： G03F7/40 ,  H01L21/027

CPC分类号： H01L21/0337 ,  C09D183/14 ,  C09D183/16 ,  G03F7/40 ,  H01L21/0274 ,  H01L21/0338 ,  H01L21/31144 ,  Y10T428/24479

摘要： 本发明提供了一种超精细图案形成方法，其可以简便地以高规模化生产率来生产超精细图案。该方法中，在待处理薄膜上形成第一凸起图案；在凸起图案的侧面上形成由含硅氮烷键的树脂组合物形成的隔体；通过使用隔体或设置在隔体周围的树脂层作为掩模来形成超精细图案。该隔体通过仅在第一凸起图案周围的部分固化均匀涂覆的树脂组合物来形成。因此，可以形成与常规图案形成方法相比更加精细的图案。

公开(公告)号：CN101802718B

公开(公告)日：2012-07-04

申请号：CN200880106486.X

申请日：2008-09-12

申请人： AZ电子材料IP(日本)株式会社

发明人： 拉尔夫·R·达梅尔 ,  康文兵 ,  清水泰雄 ,  石川智规

IPC分类号： G03F7/40 ,  H01L21/027

CPC分类号： H01L21/0273 ,  G03F7/0757 ,  G03F7/405

摘要： 本发明提供了一种具有高抗干蚀刻性的精细图案形成用组合物以及形成该精细图案的方法。该精细图案形成用组合物包含：含有具有硅氮烷键的重复单元的树脂；和溶剂，以及使用该组合物的精细图案形成方法。