发明授权
CN102105991B 光电转换装置的制造方法及光电转换装置
失效 - 权利终止
- 专利标题： 光电转换装置的制造方法及光电转换装置
- 专利标题（英）： Photoelectric conversion device manufacturing method and photoelectric conversion device
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申请号： CN200980128810.2申请日： 2009-10-02
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公开(公告)号： CN102105991B公开(公告)日： 2013-12-04
- 发明人: 宇田和孝 , 马场智义 , 石出孝 , 川添浩平 , 西宫立享
- 申请人： 三菱重工业株式会社
- 申请人地址： 日本东京
- 专利权人： 三菱重工业株式会社
- 当前专利权人： 三菱重工业株式会社
- 当前专利权人地址： 日本东京
- 代理机构： 中科专利商标代理有限责任公司
- 代理商 李贵亮
- 优先权： 2008-284209 2008.11.05 JP
- 国际申请： PCT/JP2009/067247 2009.10.02
- 国际公布： WO2010/052981 JA 2010.05.14
- 进入国家日期： 2011-01-21
- 主分类号： H01L31/04
- IPC分类号： H01L31/04
摘要：
本发明提供一种尽可能防止电流经由中间接触层分离槽泄漏的情况的光电转换装置的制造方法。该方法包括：制膜以非结晶硅为主成分的顶层(91)的工序；在顶层(91)上制膜进行电连接及光学连接的中间接触层(93)的工序；照射脉冲激光，除去中间接触层(93)，并形成到达顶层(91)的中间接触层分离槽(14)而将中间接触层(93)分离的工序；在中间接触层(93)上及中间接触层分离槽(14)内制膜进行电连接及光学连接且以微结晶硅为主成分的底层(92)的工序。中间接触层分离槽(14)在顶层(91)的i层内形成终端。
公开/授权文献
- CN102105991A 光电转换装置的制造方法及光电转换装置 公开/授权日：2011-06-22