发明授权
- 专利标题: 气相沉积系统、制造发光装置的方法和发光装置
- 专利标题(英): Vapor deposition system, method of manufacturing light emitting device and light emitting device
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申请号: CN201010542800.8申请日: 2010-11-05
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公开(公告)号: CN102154689B公开(公告)日: 2014-07-30
- 发明人: 李东柱 , 沈炫旭 , 李宪昊 , 金荣善 , 金晟泰
- 申请人: 三星电子株式会社
- 申请人地址: 韩国京畿道水原市
- 专利权人: 三星电子株式会社
- 当前专利权人: 三星电子株式会社
- 当前专利权人地址: 韩国京畿道水原市
- 代理机构: 北京铭硕知识产权代理有限公司
- 代理商 郭鸿禧; 李娜娜
- 优先权: 10-2010-0013545 2010.02.12 KR
- 主分类号: C30B25/00
- IPC分类号: C30B25/00 ; C30B25/02 ; C30B25/14 ; C30B29/40 ; H01L33/00 ; H01L33/02
摘要:
本发明提供了一种气相沉积系统、一种制造发光装置的方法和一种发光装置。根据本发明一方面的气相沉积系统可包括:第一室,具有第一基座和至少一个气体分配器,所述至少一个气体分配器沿与设置在所述第一基座上的基底平行的方向排放气体;第二室,具有第二基座和至少一个第二气体分配器,所述至少一个第二气体分配器布置在所述第二基座上方,以向下排放气体。当使用根据本发明一方面的气相沉积系统时,由此生长的半导体层具有优异的晶体质量,由此提高发光装置的性能。此外,在提高气相沉积系统的操作能力和产率的同时,可以防止设备的劣化。
公开/授权文献
- CN102154689A 气相沉积系统、制造发光装置的方法和发光装置 公开/授权日:2011-08-17