- 专利标题: 具有改进的用于等离子体清洁处理的适应性的物体
- 专利标题(英): Object with an improved suitability for a plasma cleaning treatment
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申请号: CN201010597923.1申请日: 2010-12-16
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公开(公告)号: CN102156388A公开(公告)日: 2011-08-17
- 发明人: J·马奎因 , H·维图赛克
- 申请人: ASML荷兰有限公司
- 申请人地址: 荷兰维德霍温
- 专利权人: ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人: ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人地址: 荷兰维德霍温
- 代理机构: 中科专利商标代理有限责任公司
- 代理商 王波波
- 优先权: 61/288,956 2009.12.22 US
- 主分类号: G03F7/20
- IPC分类号: G03F7/20 ; H01L21/00
摘要:
本发明公开了一种具有改进的用于等离子体清洁处理的适应性的物体。所述物体包括:第一外表面区域;第二外表面区域,其中所述物体构造并布置成与可去除盖协同操作使得所述盖可连接至所述物体以覆盖所述第二外表面区域,且其中与所述可去除盖连接的所述物体适于在等离子体清洁装置内被清洁,使得所述等离子体清洁装置不暴露给存在于第二外表面区域的颗粒,和其中所述第一外表面区域在等离子体清洁装置内被清洁。
公开/授权文献
- CN102156388B 具有改进的用于等离子体清洁处理的适应性的物体 公开/授权日:2013-09-04
IPC分类: