发明公开
- 专利标题： 光刻设备和方法
- 专利标题（英）： Lithographic apparatus and method
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申请号： CN201110060027.6申请日： 2011-03-10
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公开(公告)号： CN102193332A公开(公告)日： 2011-09-21
- 发明人: N·坦凯特 , J·J·奥腾斯 , B·A·W·H·柯拿伦 , R·J·伍德 , G·F·尼诺 , M·J·里米 , J·H·W·雅各布斯 , T·S·M·劳伦特 , J·G·C·昆尼
- 申请人： ASML荷兰有限公司
- 申请人地址： 荷兰维德霍温
- 专利权人： ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人： ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人地址： 荷兰维德霍温
- 代理机构： 中科专利商标代理有限责任公司
- 代理商 王波波
- 优先权： 61/313,410 2010.03.12 US; 61/354,126 2010.06.11 US; 61/384,666 2010.09.20 US; 61/416,142 2010.11.22 US
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20
摘要：
本发明公开了一种光刻设备和方法。本发明公开的光刻设备包括：衬底台，配置成支撑位于衬底支撑区域上的衬底；和位于邻近衬底支撑区域的表面上的加热器和/或温度传感器。
公开/授权文献
- CN102193332B 光刻设备和方法 公开/授权日：2013-06-05
IPC分类:
