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公开(公告)号：CN102681352B
公开(公告)日：2015-03-25
申请号：CN201210056867.X
申请日：2012-03-06
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： 恩格尔伯塔斯·安东尼纳斯·弗朗西丝克斯·范德帕斯奇 , J·J·奥坦斯 , E·J·M·尤森 , J·H·W·雅各布斯 , W·P·范德兰特 , F·斯塔尔斯 , L·J·曼彻特 , E·W·博高特
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70716 , G03F7/70725 , G03F7/70775 , G03F7/70833 , G03F7/709
摘要： 本发明公开一种光刻设备，包括衬底台位置测量系统和投影系统位置测量系统，分别用以测量衬底台和投影系统的位置。衬底台位置测量系统包括安装在衬底台上的衬底台参考元件和第一传感器头。衬底台参考元件在基本上平行于衬底台上的衬底的保持平面的测量平面内延伸。保持平面布置在测量平面的一侧并且第一传感器头布置在测量平面的相对侧。投影系统位置测量系统包括一个或多个投影系统参考元件和传感器组件。传感器头和传感器组件或相关的投影系统测量元件安装在传感器框架上。
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公开(公告)号：CN102981370A
公开(公告)日：2013-03-20
申请号：CN201210292390.5
申请日：2012-08-16
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： J·G·C·昆尼 , J·H·W·雅各布斯 , C·C·W·沃斯帕盖特 , R·范德哈姆 , I·A·J·托马斯 , M·霍本 , T·S·M·劳伦特 , G·M·M·考克兰 , R·H·M·J·布洛克斯 , G·彼得斯 , P·L·J·岗特尔 , M·J·里米 , S·C·R·德尔克斯
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70875 , G03F7/70341
摘要： 本发明公开了光刻设备、用于光刻设备的支撑台以及器件制造方法。所述支撑台被配置用于支撑衬底，所述支撑台具有：支撑部分，用于支撑衬底；以及调节系统，用于将热能供给至支撑部分和/或从支撑部分去除热能，其中所述调节系统包括可独立控制的多个调节单元。
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公开(公告)号：CN101681124B
公开(公告)日：2012-01-11
申请号：CN200880021208.4
申请日：2008-06-20
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： R·T·P·克姆蓬 , J·H·W·雅各布斯 , M·H·A·李恩德尔斯 , J·J·奥腾斯 , M·F·P·斯密特斯
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： H01L21/6831 , G03F7/707 , G03F7/70783 , H01L21/6838 , H01L21/68714
摘要： 本发明涉及一种夹持装置，其配置用以将物体(20，120)夹持在支撑件(1，101)上。夹持装置包括：第一装置，其配置用以采用第一力驱使物体和支撑件彼此离开；和第二装置，其配置用以采用第二力驱使物体和支撑件朝向彼此。第一装置和第二装置配置成在完成物体在支撑件上的夹持之前，同步地分别施加第一力和第二力以将物体成形为所需形状。
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公开(公告)号：CN102193332A
公开(公告)日：2011-09-21
申请号：CN201110060027.6
申请日：2011-03-10
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： N·坦凯特 , J·J·奥腾斯 , B·A·W·H·柯拿伦 , R·J·伍德 , G·F·尼诺 , M·J·里米 , J·H·W·雅各布斯 , T·S·M·劳伦特 , J·G·C·昆尼
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70875 , G03F7/7085
摘要： 本发明公开了一种光刻设备和方法。本发明公开的光刻设备包括：衬底台，配置成支撑位于衬底支撑区域上的衬底；和位于邻近衬底支撑区域的表面上的加热器和/或温度传感器。
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公开(公告)号：CN102193331A
公开(公告)日：2011-09-21
申请号：CN201110060026.1
申请日：2011-03-10
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： N·坦凯特 , J·J·奥腾斯 , B·A·W·H·柯拿伦 , R·J·伍德 , G·F·尼诺 , M·J·里米 , J·H·W·雅各布斯 , T·S·M·劳伦特 , J·G·C·昆尼
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70875 , G03F7/7085
摘要： 本发明公开了一种光刻设备和方法。本发明公开的光刻设备包括：衬底台，配置成支撑位于衬底支撑区域上的衬底；和位于邻近衬底支撑区域的表面上的加热器和/或温度传感器。
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公开(公告)号：CN1847987B
公开(公告)日：2011-02-16
申请号：CN200610074086.8
申请日：2006-04-04
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70716 , G03F7/70341 , G03F7/70808
摘要： 用于湿浸式光刻装置的液体供给系统可以在投影系统的最后一个元件和基底之间提供层流的浸液。控制系统可使溢出的概率最小化，并且引出装置包括配置成使振动最小化的出口阵列。
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公开(公告)号：CN1811601B
公开(公告)日：2010-08-18
申请号：CN200610008927.5
申请日：2006-01-12
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： P·M·M·列布雷格特斯 , J·H·W·雅各布斯 , T·尤得迪杰克
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70341
摘要： 本发明公开了一种浸没光刻装置，在所述装置中，一个或多个液体分流器设置在液体限制结构所包围的间隙中。液体分流器的功能是阻止一个或多个浸没液体回流区的形成，回流区可以导致在所述间隙中的浸没液体的折射率改变，进而造成成像错误。
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公开(公告)号：CN102981370B
公开(公告)日：2015-08-05
申请号：CN201210292390.5
申请日：2012-08-16
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： J·G·C·昆尼 , J·H·W·雅各布斯 , C·C·W·沃斯帕盖特 , R·范德哈姆 , I·A·J·托马斯 , M·霍本 , T·S·M·劳伦特 , G·M·M·考克兰 , R·H·M·J·布洛克斯 , G·彼得斯 , P·L·J·岗特尔 , M·J·里米 , S·C·R·德尔克斯
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70875 , G03F7/70341
摘要： 本发明公开了光刻设备、用于光刻设备的支撑台以及器件制造方法。所述支撑台被配置用于支撑衬底，所述支撑台具有：支撑部分，用于支撑衬底；以及调节系统，用于将热能供给至支撑部分和/或从支撑部分去除热能，其中所述调节系统包括可独立控制的多个调节单元。
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公开(公告)号：CN104303109A
公开(公告)日：2015-01-21
申请号：CN201380025453.3
申请日：2013-04-16
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： J·H·W·雅各布斯 , J·S·C·维斯特尔拉肯
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70875 , G03F7/707 , G03F7/70716 , G03F7/70783 , G03F7/70816 , G03F7/70891 , G03F7/7095 , H01L21/67103
摘要： 本发明公开了一种热调节单元(100)，用以热调节光刻设备中的衬底(W)，所述热调节单元包括：热调节元件(200)，所述热调节元件包括第一层(210)、第二层(220)以及定位在第一层和第二层之间的热传递部件(230)，第一层在使用时面对衬底并且包括具有100W/mK或更大的热导率的材料；和加强构件(110)，所述加强构件比热调节元件硬并且配置成支撑热调节元件以便减小其机械变形，其中所述热调节元件与所述加强构件是热隔离的。
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公开(公告)号：CN102955372A
公开(公告)日：2013-03-06
申请号：CN201210280770.7
申请日：2012-08-08
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： J·G·C·昆尼 , J·H·W·雅各布斯 , M·霍本 , T·S·M·劳伦特 , F·J·J·范鲍克斯台尔 , S·C·R·德尔克斯 , S·N·L·唐德斯
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70341 , G03F7/707 , G03F7/70875 , H01L21/683
摘要： 本发明公开了一种衬底台组件、浸没光刻设备以及器件制造方法。所述衬底台组件包括：衬底台，用以支撑衬底；和气体处理系统，用以将气体提供至衬底台与安装在衬底台上的衬底之间的区域，其中由气体处理系统提供的气体的热导率在298K的条件下大于或等于100mW/(m.K)。
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