发明授权
- 专利标题: 一种半导体成膜装置装载腔
- 专利标题(英): Loading cavity of semiconductor film-forming device
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申请号: CN201010123615.5申请日: 2010-03-12
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公开(公告)号: CN102194651B公开(公告)日: 2013-03-27
- 发明人: 吴新江 , 吴海军
- 申请人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
- 申请人地址: 上海市张江路18号
- 专利权人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
- 当前专利权人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
- 当前专利权人地址: 上海市张江路18号
- 代理机构: 上海思微知识产权代理事务所
- 代理商 屈蘅; 李时云
- 主分类号: H01L21/00
- IPC分类号: H01L21/00
摘要:
本发明提供一种半导体成膜装置的装载腔,包括:腔体、顶盖、供气通道、排气通道和气压缓冲装置,所述腔体侧壁上具有晶圆进入口和晶圆送出口;所述顶盖盖于所述腔体的顶端;所述排气通道由所述腔体内经由所述腔体的侧壁延伸至所述腔体外,还包括过滤器,所述供气通道由所述腔体外,依次通过过滤器、气压缓冲装置,穿过所述顶盖进入所述腔体;所述过滤器用以对所述供气通道内的气体进行过滤清洁。本发明的装载腔极大的降低了供气通道漏气的几率,减小了漏气对装载腔内晶圆的不良影响。
公开/授权文献
- CN102194651A 一种半导体成膜装置装载腔 公开/授权日:2011-09-21
IPC分类: