发明公开
- 专利标题: 半导体晶片及其制造方法、以及半导体芯片
- 专利标题(英): Semiconductor wafer and its manufacture method, and semiconductor chip
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申请号: CN201110049434.7申请日: 2011-02-28
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公开(公告)号: CN102201394A公开(公告)日: 2011-09-28
- 发明人: 吉泽和隆 , 江间泰示
- 申请人: 富士通半导体股份有限公司
- 申请人地址: 日本神奈川县横滨市
- 专利权人: 富士通半导体股份有限公司
- 当前专利权人: 富士通半导体存储方案股份有限公司
- 当前专利权人地址: 日本神奈川县横滨市
- 代理机构: 隆天国际知识产权代理有限公司
- 代理商 张浴月; 刘文意
- 优先权: 2010-068648 2010.03.24 JP; 2010-215753 2010.09.27 JP
- 主分类号: H01L23/58
- IPC分类号: H01L23/58 ; H01L21/3205 ; H01L21/78
摘要:
本发明提供一种半导体晶片及其制造方法、以及半导体芯片,该半导体晶片包括:第一半导体芯片区,形成有一半导体元件;第二半导体芯片区,形成有一半导体元件;以及划片区,夹在第一半导体芯片区和第二半导体芯片区之间;其中:第一半导体芯片区包括第一金属环,该第一金属环环绕形成在第一半导体芯片区中的该半导体元件;第一金属环由多个金属层构成,多个金属层包括下侧金属层和叠置在该下侧金属层上方的上侧金属层,并且该上侧金属层以如下方式,即以第一半导体芯片区中的该上侧金属层的外部侧壁与该下侧金属层的外部侧壁齐平的方式或位于第一半导体芯片区的内部位置的方式,叠置在下侧金属层上方。
公开/授权文献
- CN102201394B 半导体晶片及其制造方法、以及半导体芯片 公开/授权日:2014-08-13
IPC分类: