发明授权
CN102203672B 压印平版印刷术系统和方法
失效 - 权利终止
- 专利标题： 压印平版印刷术系统和方法
- 专利标题（英）： Imprint lithography system and method
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申请号： CN200980142766.0申请日： 2009-10-21
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公开(公告)号： CN102203672B公开(公告)日： 2013-11-13
- 发明人: M·加纳帕斯苏伯拉曼尼安 , 崔炳镇 , M·J·美斯尔
- 申请人： 分子制模股份有限公司
- 申请人地址： 美国得克萨斯州
- 专利权人： 分子制模股份有限公司
- 当前专利权人： 分子制模股份有限公司
- 当前专利权人地址： 美国得克萨斯州
- 代理机构： 上海专利商标事务所有限公司
- 代理商 茅翊忞
- 优先权： 61/107,729 2008.10.23 US; 61/108,640 2008.10.27 US; 12/582,091 2009.10.20 US
- 国际申请： PCT/US2009/005721 2009.10.21
- 国际公布： WO2010/047788 EN 2010.04.29
- 进入国家日期： 2011-04-22
- 主分类号： G03F7/00
- IPC分类号： G03F7/00
摘要：
使用可控的基底和/或模板的变形来压印基底的系统、方法和过程。在压印平版印刷术过程中，基底和/或模板可定位成单波形态或双波形态。
公开/授权文献
- CN102203672A 压印平版印刷术系统和方法 公开/授权日：2011-09-28
