发明授权
CN102356526B 放电间隙填充用组合物和静电放电保护体
失效 - 权利终止
- 专利标题： 放电间隙填充用组合物和静电放电保护体
- 专利标题（英）： Composition for discharge-gap filling and electro-static discharge protector
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申请号： CN201080012273.8申请日： 2010-03-17
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公开(公告)号： CN102356526B公开(公告)日： 2013-08-28
- 发明人: 石原吉满 , 大西美奈 , 东幸彦
- 申请人： 昭和电工株式会社
- 申请人地址： 日本东京都
- 专利权人： 昭和电工株式会社
- 当前专利权人： 昭和电工株式会社
- 当前专利权人地址： 日本东京都
- 代理机构： 北京市中咨律师事务所
- 代理商 段承恩; 田欣
- 优先权： 2009-067332 2009.03.19 JP
- 国际申请： PCT/JP2010/054546 2010.03.17
- 国际公布： WO2010/107059 JA 2010.09.23
- 进入国家日期： 2011-09-16
- 主分类号： H01T4/10
- IPC分类号： H01T4/10 ; H01C7/12
摘要：
本发明的目的是提供可以对各种设计的电子电路基板以自由的形状且简便地实现应对ESD，并且工作电压的调整精度优异、可小型化、低成本化的静电放电保护体，以及可以用于制造上述静电放电保护体的放电间隙填充用组合物。本发明涉及放电间隙填充用组合物、以及由该组合物制成的静电放电保护体，所述放电间隙填充用组合物的特征在于，包含用下述通式(1)所示金属醇盐的水解产物包覆金属粒子而成的金属粒子(A)和粘合剂成分(C)。R-O-[M(OR)2-O-]n-R(1)其中，M是金属原子，O是氧原子，R是烷基，R的全部可以相同或彼此不同，n是1～40的整数。
公开/授权文献
- CN102356526A 放电间隙填充用组合物和静电放电保护体 公开/授权日：2012-02-15
