本发明涉及一种装置，包括：第一部件，所述第一部件包括由基于硅化合物的材料制成的基材(22)，由包括至少一种陶瓷氧化物的涂层材料制成的涂层(32)，在所述基材和所述涂层之间延伸的包括氧化硅的过渡层，所述过渡层具有小于10μm的厚度，以及第一收缩环和/或由顺应材料制成的层，所述顺应材料由合金所组成，所述合金包括选自于银、金和钯中的至少两种材料，所述涂层一方面限定所述第一部件和所述第一收缩环之间的界面的至少一部分、和/或在另一方面限定所述第一收缩环和所述由顺应材料制成的层之间的界面的至少一部分。