发明公开
CN102446925A 阵列基板、液晶显示器及阵列基板的制造方法
失效 - 权利终止
- 专利标题: 阵列基板、液晶显示器及阵列基板的制造方法
- 专利标题(英): Array base plate, liquid crystal display and manufacturing method for array base plate
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申请号: CN201010502101.0申请日: 2010-09-30
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公开(公告)号: CN102446925A公开(公告)日: 2012-05-09
- 发明人: 刘翔 , 薛建设
- 申请人: 京东方科技集团股份有限公司
- 申请人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 专利权人: 京东方科技集团股份有限公司
- 当前专利权人: 京东方科技集团股份有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 代理机构: 北京同立钧成知识产权代理有限公司
- 代理商 刘芳
- 主分类号: H01L27/12
- IPC分类号: H01L27/12 ; H01L21/77 ; G02F1/1362 ; G02F1/1333
摘要:
本发明公开了一种阵列基板、液晶显示器及阵列基板的制造方法。阵列基板包括:衬底基板,衬底基板上形成有栅线、数据线、薄膜晶体管、像素电极、有源层、钝化层和栅绝缘层;薄膜晶体管包括与栅线连接的栅电极、与数据线连接的源电极和与像素电极连接的漏电极;栅绝缘层形成于栅电极上方;钝化层设置于有源层与源电极和漏电极之间;且钝化层上设有源电极过孔和漏电极过孔;源电极和漏电极分别通过源电极过孔和漏电极过孔与有源层连接。本发明技术方案通过一次构图形成有源层、钝化层和栅绝缘层,减少了构图次数,提高了生产效率;同时实现了钝化层位于有源层上方的阵列基板结构,避免了在形成源电极和漏电极时对TFT沟道造成损伤。
公开/授权文献
- CN102446925B 阵列基板、液晶显示器及阵列基板的制造方法 公开/授权日:2015-05-20
IPC分类: