发明授权
- 专利标题: 物体检查系统和方法
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申请号: CN201080034422.0申请日: 2010-07-02
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公开(公告)号: CN102472962B公开(公告)日: 2015-08-26
- 发明人: V·伊万诺夫 , A·邓鲍夫 , V·班尼恩 , L·斯卡克卡巴拉兹 , N·伊欧萨德
- 申请人: ASML荷兰有限公司
- 申请人地址: 荷兰维德霍温
- 专利权人: ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人: ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人地址: 荷兰维德霍温
- 代理机构: 中科专利商标代理有限责任公司
- 代理商 吴敬莲
- 优先权: 61/231,161 2009.08.04 US
- 国际申请: PCT/EP2010/059460 2010.07.02
- 国际公布: WO2011/015412 EN 2011.02.10
- 进入国家日期: 2012-02-03
- 主分类号: G03F1/84
- IPC分类号: G03F1/84 ; G03F1/22 ; G01N21/64 ; G01N21/95
摘要:
用于物体检查的方法和系统包括基于不想要的微粒与将要被检查的物体相比由于其不同的材料带来的不同的响应,使用分光技术检查物体表面上的不想要的微粒。使用来自物体表面的次级光子发射的能量分辨光谱术和/或时间分辨光谱术获得拉曼和光致发光光谱。将要被检查的物体可以例如是在光刻过程中使用的图案形成装置,诸如掩模版,在这种情况下,可以检测例如金属、金属氧化物或有机物微粒的存在。方法和设备非常敏感,因而能够检测EUV掩模版的图案侧上的小的微粒(例如亚100nm,其至亚50nm)。
公开/授权文献
- CN102472962A 物体检查系统和方法 公开/授权日:2012-05-23