发明授权
- 专利标题: III族氮化物半导体元件、外延衬底及制作III族氮化物半导体元件的方法
- 专利标题(英): Group-III nitride semiconductor element, epitaxial substrate, and method for fabricating a group-III nitride semiconductor element
-
申请号: CN201080031730.8申请日: 2010-07-13
-
公开(公告)号: CN102474075B公开(公告)日: 2014-03-26
- 发明人: 盐谷阳平 , 善积祐介 , 京野孝史 , 住友隆道 , 秋田胜史 , 上野昌纪 , 中村孝夫
- 申请人: 住友电气工业株式会社
- 申请人地址: 日本大阪府大阪市
- 专利权人: 住友电气工业株式会社
- 当前专利权人: 住友电气工业株式会社
- 当前专利权人地址: 日本大阪府大阪市
- 代理机构: 中原信达知识产权代理有限责任公司
- 代理商 王海川; 穆德骏
- 优先权: 2009-167140 2009.07.15 JP
- 国际申请: PCT/JP2010/061837 2010.07.13
- 国际公布: WO2011/007776 JA 2011.01.20
- 进入国家日期: 2012-01-13
- 主分类号: H01S5/343
- IPC分类号: H01S5/343 ; H01L21/205
摘要:
本发明提供包含具有良好表面形态的半极性外延膜的III族氮化物半导体元件。包含III族氮化物半导体的支撑基体13的主面13a沿着与基准轴Ax正交的基准平面RSUB延伸,所述基准轴Ax相对于该III族氮化物半导体的c轴以规定的角度ALPHA倾斜。基准轴Ax沿着从该III族氮化物半导体的c轴朝向m轴的方向以10度以上且小于80度的范围内的第一角度ALPHA1倾斜。主面13a显示出半极性。基准轴Ax从该III族氮化物半导体的c轴向a轴的方向以-0.30度以上且+0.30度以下的范围内的第二角度ALPHA2倾斜。基准轴Ax在主面13a的法线方向上延伸。外延半导体区域15的最表面15a的形态包含多个凹坑,该凹坑的凹坑密度为5×104cm-2以下。
公开/授权文献
- CN102474075A III族氮化物半导体元件、外延衬底及制作III族氮化物半导体元件的方法 公开/授权日:2012-05-23