Invention Grant
- Patent Title: 干膜光致抗蚀剂
- Patent Title (English): Dry film photoresist
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Application No.: CN201080043364.8Application Date: 2010-09-28
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Publication No.: CN102549500BPublication Date: 2014-04-30
- Inventor: 石想勋 , 文熙岏 , 奉东勋 , 李炳逸 , 韩国贤 , 赵承济 , 崔钟昱
- Applicant: 可隆工业株式会社
- Applicant Address: 韩国京畿道
- Assignee: 可隆工业株式会社
- Current Assignee: 可隆工业株式会社
- Current Assignee Address: 韩国京畿道
- Agency: 北京鸿元知识产权代理有限公司
- Agent 黄丽娟; 陈英俊
- Priority: 10-2009-0092045 2009.09.28 KR; 10-2009-0112829 2009.11.20 KR; 10-2010-0060520 2010.06.25 KR
- International Application: PCT/KR2010/006592 2010.09.28
- International Announcement: WO2011/037438 KO 2011.03.31
- Date entered country: 2012-03-28
- Main IPC: G03F7/11
- IPC: G03F7/11 ; G03F7/09 ; G03F7/075
Abstract:
本发明提供干膜光致抗蚀剂，具体而言，本发明的干膜光致抗蚀剂可在去除基膜的状态下实施曝光工艺，从而防止基膜对曝光效果的不利影响，提高分辨率。尤其是，即使在存在树脂保护层的状态下进行曝光，也不会因树脂保护层降低透明度和显像速度，从而可实现高分辨率。
Public/Granted literature
- CN102549500A 干膜光致抗蚀剂 Public/Granted day:2012-07-04
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IPC分类:
