发明授权
- 专利标题： 一种气相沉积设备
- 专利标题（英）： Vapor deposition equipment
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申请号： CN201010599935.8申请日： 2010-12-13
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公开(公告)号： CN102560436B公开(公告)日： 2014-07-16
- 发明人: 张秀川
- 申请人： 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司
- 申请人地址： 北京市朝阳区酒仙桥东路1号M5楼南二层
- 专利权人： 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司
- 当前专利权人： 北京北方华创微电子装备有限公司
- 当前专利权人地址： 北京市朝阳区酒仙桥东路1号M5楼南二层
- 代理机构： 北京天昊联合知识产权代理有限公司
- 代理商 张天舒; 陈源
- 主分类号： C23C16/46
- IPC分类号： C23C16/46 ; C23C16/52
摘要：
本发明提供一种气相沉积设备，其包括工艺腔室和设置于工艺腔室外部的感应加热线圈。其中，上述感应加热线圈包括至少2个串联在一起的且螺旋方向一致的子螺旋线圈，相邻的子螺旋线圈的间距可调。通过调节相邻的子螺旋线圈的间距而对工艺腔室内的温度分布进行调节，从而使工艺腔室内的温度分布趋于均匀，进而有利于获得均匀的工艺结果。
公开/授权文献
- CN102560436A 一种气相沉积设备 公开/授权日：2012-07-11
IPC分类:
