发明授权
- 专利标题: 半导体发光器件及其制造方法
- 专利标题(英): Semiconductor light emitting device and method for manufacturing the same
-
申请号: CN201210018042.9申请日: 2012-01-19
-
公开(公告)号: CN102623605B公开(公告)日: 2015-05-06
- 发明人: 伊藤俊秀 , 岡俊行 , 布上真也
- 申请人: 株式会社东芝
- 申请人地址: 日本东京都
- 专利权人: 株式会社东芝
- 当前专利权人: 阿尔发得株式会社
- 当前专利权人地址: 日本东京都
- 代理机构: 北京市中咨律师事务所
- 代理商 杨晓光; 于静
- 优先权: 014117/2011 2011.01.26 JP
- 主分类号: H01L33/42
- IPC分类号: H01L33/42
摘要:
本发明涉及半导体发光器件及其制造方法。根据一个实施例,半导体发光器件包括第一和第二导电层、第一导电类型的第一半导体层、第二导电类型的第二半导体层、以及发光部件。在第一导电层和第一半导体层之间提供第二半导体层。在第一半导体层和第二半导体层之间提供发光部件。第二导电层在第二半导体层和第一导电层之间并与第二半导体层和第一导电层接触。第一和第二导电层能够透射从发光部件发出的光。第一导电层包括具有第一平均晶粒直径的多晶体。第二导电层包括具有小于等于150纳米的第二平均晶粒直径的多晶体,第二平均晶粒直径小于第一平均晶粒直径。
公开/授权文献
- CN102623605A 半导体发光器件及其制造方法 公开/授权日:2012-08-01
IPC分类: