发明授权
- 专利标题: 研磨垫
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申请号: CN201180004980.7申请日: 2011-02-24
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公开(公告)号: CN102655983B公开(公告)日: 2015-12-16
- 发明人: 清水绅司 , 数野淳
- 申请人: 东洋橡胶工业株式会社
- 申请人地址: 日本大阪府大阪市
- 专利权人: 东洋橡胶工业株式会社
- 当前专利权人: 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司
- 当前专利权人地址: 日本大阪府大阪市
- 代理机构: 中原信达知识产权代理有限责任公司
- 代理商 金龙河; 樊卫民
- 优先权: 2010-040696 2010.02.25 JP; 2011-021994 2011.02.03 JP
- 国际申请: PCT/JP2011/054157 2011.02.24
- 国际公布: WO2011/105494 JA 2011.09.01
- 进入国家日期: 2012-06-15
- 主分类号: B24B37/24
- IPC分类号: B24B37/24 ; C08G18/10 ; H01L21/304
摘要:
本发明的目的在于提供一种研磨垫,其具有具备相分离结构的研磨层,研磨速度大,平坦化特性优良,能够抑制划痕的产生。本发明的研磨垫,具有研磨层,所述研磨垫的特征在于,所述研磨层由含有异氰酸酯封端预聚物(A)、异氰酸酯封端预聚物(B)以及增链剂的聚氨酯原料组合物的反应固化物形成,其中,所述异氰酸酯封端预聚物(A)通过使包含异氰酸酯成分和聚酯系多元醇的预聚物原料组合物(a)反应而得到,所述异氰酸酯封端预聚物(B)通过使包含异氰酸酯成分和聚醚系多元醇的预聚物原料组合物(b)反应而得到,且所述反应固化物具有相分离结构。
公开/授权文献
- CN102655983A 研磨垫 公开/授权日:2012-09-05