发明公开
CN102797590A 一种基于等离子体激励的进气道附面层分离抑制方法
失效 - 权利终止
- 专利标题: 一种基于等离子体激励的进气道附面层分离抑制方法
- 专利标题(英): Plasma excitation-based method for restraining separation of boundary layer in air inlet passageway
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申请号: CN201210269375.9申请日: 2012-07-31
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公开(公告)号: CN102797590A公开(公告)日: 2012-11-28
- 发明人: 唐井峰 , 于达仁 , 鲍文 , 李西鹏 , 刘鹏
- 申请人: 哈尔滨工业大学
- 申请人地址: 黑龙江省哈尔滨市南岗区西大直街92号
- 专利权人: 哈尔滨工业大学
- 当前专利权人: 哈尔滨工业大学
- 当前专利权人地址: 黑龙江省哈尔滨市南岗区西大直街92号
- 代理机构: 哈尔滨市松花江专利商标事务所
- 代理商 刘同恩
- 主分类号: F02K7/10
- IPC分类号: F02K7/10
摘要:
一种基于等离子体激励的进气道附面层分离抑制方法,它涉及一种用于抑制超燃冲压发动机进气道附面层分离,提高进气道性能的方法,以解决非设计马赫数下飞行时进气道进口处产生附面层分离的问题。方法:一、第一径向通道、第二径向通道、第三径向通道和水平通孔的内表面均镀有陶瓷膜;二、水平孔的输入端与等离子体发生装置上的出口连接;三、两个外侧电极设置在锥面的表面上,两个内侧电极镶嵌在锥面内;四、等离子体发生装置产生的等离子体在进口处喷射产生射流型的等离子体;五、等离子在外侧电极和内侧电极的电场作用下加速喷射,加速了附面层的气流流动,抑制了附面层的分离。本发明用于抑制超燃冲压发动机进气道内附面层的分离。
公开/授权文献
- CN102797590B 一种基于等离子体激励的进气道附面层分离抑制方法 公开/授权日:2014-12-17