- 专利标题: 配线基板的镀覆方法、镀覆配线基板的制法以及银蚀刻液
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申请号: CN201210226694.1申请日: 2012-06-29
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公开(公告)号: CN102858093B公开(公告)日: 2017-03-01
- 发明人: 潮田会美 , 今井彻郎
- 申请人: 株式会社德山
- 申请人地址: 日本山口县
- 专利权人: 株式会社德山
- 当前专利权人: 株式会社德山
- 当前专利权人地址: 日本山口县
- 代理机构: 北京林达刘知识产权代理事务所
- 代理商 刘新宇; 李茂家
- 优先权: 2011-146660 2011.06.30 JP
- 主分类号: H05K3/18
- IPC分类号: H05K3/18 ; C23C18/18 ; C23C18/34 ; C23C18/42 ; C23F1/00 ; C23F1/14
摘要:
本发明涉及配线基板的镀覆方法、镀覆配线基板的制法及银蚀刻液。一种具有导电图案的配线基板的镀覆方法,该图案在外表面露出至少含有银和铜的金属层,该方法可抑制导电图案以外的部分的镀覆析出、且可在导电图案的表面形成良好的镀层,具有:将配线基板用含有氧化剂的第1处理液处理的(A)工序;将经过(A)工序的配线基板用溶解氧化铜的第2处理液处理由此从导电图案表面将氧化铜去除的(B)工序;将经过(B)工序的配线基板用第3处理液处理由此从导电图案表面将氧化银去除的(C)工序,所述第3处理液在25℃下溶解氧化银(I)的速度为在25℃下溶解铜(0)的速度的1000倍以上;在经过(C)工序的配线基板的导电图案上施行化学镀的(D)工序。
公开/授权文献
- CN102858093A 配线基板的镀覆方法、镀覆配线基板的制法以及银蚀刻液 公开/授权日:2013-01-02