Invention Grant
- Patent Title: 适用于放电表面处理的电极的制造方法
- Patent Title (English): Process for production of electrode to be used in discharge surface treatment
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Application No.: CN201180020672.3Application Date: 2011-04-27
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Publication No.: CN102858481BPublication Date: 2015-04-15
- Inventor: 吉泽广喜 , 渡边光敏 , 落合宏行 , 下田幸浩 , 野村恭兵 , 久布白圭司
- Applicant: 株式会社IHI
- Applicant Address: 日本东京都
- Assignee: 株式会社IHI
- Current Assignee: 株式会社IHI
- Current Assignee Address: 日本东京都
- Agency: 北京银龙知识产权代理有限公司
- Agent 钟晶; 於毓桢
- Priority: 2010-104090 2010.04.28 JP; 2010-111008 2010.05.13 JP
- International Application: PCT/JP2011/060212 2011.04.27
- International Announcement: WO2011/136246 JA 2011.11.03
- Date entered country: 2012-10-24
- Main IPC: B22F3/02
- IPC: B22F3/02 ; B29C45/00 ; B29K105/22
Abstract:
本发明制备可适用于放电表面处理的电极。涉及的方法由以下工序形成：将包含由选自喷散法、还原法及羰基法的任一工艺所得的第1粉末与由粉碎法所得的第2粉末的、含有10~65重量%的第2粉末的导电性混合物与粘结剂的组合物进行混炼，为了得到坯体而将经混炼的上述组合物注射到模具中，为了从所述坯体除去所述粘结剂而加热所述坯体，将除去所述粘结剂的所述坯体进行烧结。
Public/Granted literature
- CN102858481A 适用于放电表面处理的电极及其制造方法 Public/Granted day:2013-01-02
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