发明公开
- 专利标题: 一种大视场折反射投影光学系统
- 专利标题(英): Refraction and reflection projection optical system with large view field
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申请号: CN201110241794.7申请日: 2011-08-22
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公开(公告)号: CN102955235A公开(公告)日: 2013-03-06
- 发明人: 郭银章 , 黄玲
- 申请人: 上海微电子装备有限公司
- 申请人地址: 上海市浦东区张江高科技园区张东路1525号
- 专利权人: 上海微电子装备有限公司
- 当前专利权人: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
- 当前专利权人地址: 上海市浦东区张江高科技园区张东路1525号
- 代理机构: 北京连和连知识产权代理有限公司
- 代理商 王光辉
- 主分类号: G02B17/08
- IPC分类号: G02B17/08 ; G02B17/00 ; G02B13/18 ; G02B13/22 ; G02B1/00 ; G03F7/20
摘要:
本发明一种大视场折反射投影光学系统,沿光线传播方向依次经过第一光学镜片,第一透镜,第一反射镜,第二透镜,第三透镜;其中,所述第一光学镜片包含一透射部,及一反射部,且所述各光学元件在同一光轴上。本发明提出的一种i线一倍投影光学系统,能校正大视场范围内畸变、场曲、像散,并实现物像空间的双远心。在实现了NA0.1的数值孔径设计,满足实际的产品需求的同时,具有大的曝光视场,而且镜片数量减少到5片。
公开/授权文献
- CN102955235B 一种大视场折反射投影光学系统 公开/授权日:2015-11-25
IPC分类:
G | 物理 |
G02 | 光学 |
G02B | 光学元件、系统或仪器 |
G02B17/00 | 有或无折射元件的具有反射面的系统 |
G02B17/08 | .折反射系统 |