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公开(公告)号：CN105807567A
公开(公告)日：2016-07-27
申请号：CN201410830267.3
申请日：2014-12-29
申请人： 上海微电子装备有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明提出一种投影物镜倍率调整系统，用于光刻设备，所述光刻设备包括掩模、投影物镜以及工件台，其特征在于，所述投影物镜光学系统中还包括一气体密封腔，通过调整所述气体密封腔中混合气体的配比来调整所述混合气体的折射率，从而调整所述投影物镜的倍率；所述气体密封腔位于所述投影物镜光学系统中气体折射率改变对倍率灵敏度高且对成像质量影响较小的光学镜片之间。本发明的投影物镜倍率调整系统和方法使机械结构更加简单，从而提高了整个投影物镜机械结构的稳定性和可靠性。同时，可以补偿投影光刻物镜在曝光过程中的热效应、投影光刻物镜在不同海拔环境下、以及投影光刻物镜使用环境的温度和压力等变化导致的投影光刻物镜倍率改变，还有实际工艺情况需要投影物镜提供倍率调整能力，从而补偿投影物镜的倍率漂移引起严重的套刻误差。
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公开(公告)号：CN103676096B
公开(公告)日：2016-03-09
申请号：CN201210319547.9
申请日：2012-09-03
申请人： 上海微电子装备有限公司
摘要： 本发明提出一种投影物镜光学系统，将掩模图形从物平面经过光学系统传送到像平面，所述投影物镜光学系统沿其光轴方向从物面一侧顺次包括：第一透镜、第二透镜、第三透镜、孔径光阑、第四透镜、第五透镜、第六透镜；所述第一透镜、第二透镜、第三透镜分别与第六透镜、第五透镜、第四透镜关于孔径光阑完全对称。其中，第一透镜具有正光焦度，第二透镜具有负光焦度，第三透镜具有正光焦度；第二透镜与第三透镜构成第一透镜组；第一透镜、第二透镜与第三透镜之间的光焦度分配满足以下条件：G111∶G113=-0.73～-0.79，第一透镜与第一透镜组光焦度比值为：G111/G123=3.72～3.91；其中，G111、G113分别为第一、第三透镜的光焦度；G123为第一透镜组的光焦度；第四透镜、第五透镜与第六透镜的光焦度分配也满足上述条件。
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公开(公告)号：CN102955235A
公开(公告)日：2013-03-06
申请号：CN201110241794.7
申请日：2011-08-22
申请人： 上海微电子装备有限公司
摘要： 本发明一种大视场折反射投影光学系统，沿光线传播方向依次经过第一光学镜片，第一透镜，第一反射镜，第二透镜，第三透镜；其中，所述第一光学镜片包含一透射部，及一反射部，且所述各光学元件在同一光轴上。本发明提出的一种i线一倍投影光学系统，能校正大视场范围内畸变、场曲、像散，并实现物像空间的双远心。在实现了NA0.1的数值孔径设计，满足实际的产品需求的同时，具有大的曝光视场，而且镜片数量减少到5片。
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公开(公告)号：CN105652599A
公开(公告)日：2016-06-08
申请号：CN201410729220.8
申请日：2014-12-04
申请人： 上海微电子装备有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明公开一种降低光刻投影物镜环境热效应影响的方法，包括：步骤一、根据环境温度变化，计算该投影物镜的热折变焦面漂移与热变形焦面漂移以及总焦面漂移灵敏度三者值的大小和符号关系；步骤二、计算该投影物镜的单个镜片在环境温度变化下的热折变焦面灵敏度；步骤三、选择该单个镜片中热折变焦面灵敏度高且与该总焦面漂移灵敏度相反的镜片；步骤四、将该步骤三中的镜片替换为折射率温度系数相反的镜片。
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公开(公告)号：CN103676096A
公开(公告)日：2014-03-26
申请号：CN201210319547.9
申请日：2012-09-03
申请人： 上海微电子装备有限公司
摘要： 本发明提出一种投影物镜光学系统，将掩模图形从物平面经过光学系统传送到像平面，所述投影物镜光学系统沿其光轴方向从物面一侧顺次包括：第一透镜、第二透镜、第三透镜、孔径光阑、第四透镜、第五透镜、第六透镜；所述第一透镜、第二透镜、第三透镜分别与第六透镜、第五透镜、第四透镜关于孔径光阑完全对称。其中，第一透镜具有正光焦度，第二透镜具有负光焦度，第三透镜具有正光焦度；第二透镜与第三透镜构成第一透镜组；第一透镜、第二透镜与第三透镜之间的光焦度分配满足以下条件：G111∶G113=-0.73～-0.79，第一透镜与第一透镜组光焦度比值为：G111/G123=3.72～3.91；其中，G111、G113分别为第一、第三透镜的光焦度；G123为第一透镜组的光焦度；第四透镜、第五透镜与第六透镜的光焦度分配也满足上述条件。
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公开(公告)号：CN102736232A
公开(公告)日：2012-10-17
申请号：CN201110081504.7
申请日：2011-03-31
申请人： 上海微电子装备有限公司
摘要： 一种大视场投影光刻物镜，其特征在于是由四片曲率不为零的反射镜组成的光学系统，且四片反射镜焦点位于同一光轴上；其中包含两片凹面反射镜和两片凸面反射镜。四片反射镜满足如下关系：0.45＜|f1/f2|＜0.85，0.35＜|f3/f4|＜0.80，0.40＜|f1/f4|＜0.70，其中，f1、f2、f3、f4分别为第一、第二、第三、第四四片反射镜的焦距。本发明的大视场投影光刻物镜可通过改变四片反射镜的位置和光焦度增大视场，不完全依赖于反射镜的口径，有效控制了加工难度。
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公开(公告)号：CN103033915B
公开(公告)日：2016-02-03
申请号：CN201110303136.6
申请日：2011-10-10
申请人： 上海微电子装备有限公司
摘要： 本发明提出一种大视场的对称式折反射光学系统，用于光刻曝光系统，沿光线传播方向依次包括：物面；第一反射镜；第一透镜组；一光阑；第二透镜组；第二反射镜；像面；其中，所述各光学元件在同一光轴上，且光阑前、后的光学系统相对于光阑对称。本发明的大视场对称式折反射光学系统，是满足ghi三线，双远心对称式的1倍折反射式投影物镜，满足实际产品需求。同时由于采用对称式设计，垂轴像差，慧差，畸变，倍率色差将会很小；用于补偿的折射镜组位于两主反射镜中间的光阑附近，所以有效减小了折射元件的口径，折射元件的口径和视场的比值做到了将近1：2，从而有效地控制了成本和加工难度。
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公开(公告)号：CN102736232B
公开(公告)日：2014-08-20
申请号：CN201110081504.7
申请日：2011-03-31
申请人： 上海微电子装备有限公司
摘要： 一种大视场投影光刻物镜，其特征在于是由四片曲率不为零的反射镜组成的光学系统，且四片反射镜焦点位于同一光轴上；其中包含两片凹面反射镜和两片凸面反射镜。四片反射镜满足如下关系：0.45＜|f1/f2|＜0.850.35＜|f3/f4|＜0.800.40＜|f1/f4|＜0.70其中，f1、f2、f3、f4分别为第一、第二、第三、第四片反射镜的焦距。本发明的大视场投影光刻物镜可通过改变四片反射镜的位置和光焦度增大视场，不完全依赖于反射镜的口径，有效控制了加工难度。
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公开(公告)号：CN103033915A
公开(公告)日：2013-04-10
申请号：CN201110303136.6
申请日：2011-10-10
申请人： 上海微电子装备有限公司
摘要： 本发明提出一种大视场的对称式折反射光学系统，用于光刻曝光系统，沿光线传播方向依次包括：物面；第一反射镜；第一透镜组；一光阑；第二透镜组；第二反射镜；像面；其中，所述各光学元件在同一光轴上，且光阑前、后的光学系统相对于光阑对称。本发明的大视场对称式折反射光学系统，是满足ghi三线，双远心对称式的1倍折反射式投影物镜，满足实际产品需求。同时由于采用对称式设计，垂轴像差，慧差，畸变，倍率色差将会很小；用于补偿的折射镜组位于两主反射镜中间的光阑附近，所以有效减小了折射元件的口径，折射元件的口径和视场的比值做到了将近1：2，从而有效地控制了成本和加工难度。
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公开(公告)号：CN106997150A
公开(公告)日：2017-08-01
申请号：CN201610044309.X
申请日：2016-01-22
申请人： 上海微电子装备有限公司
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70883 , G03F7/70858
摘要： 本发明公开了一种降低光刻物镜压力灵敏度的方法及其应用，该方法包括以下步骤：首先对光刻物镜内的各个透镜间隔针对空气进行焦面或倍率的压力灵敏度测量，并对所有测量数据进行求和得到总和A；接着根据得到的总和A的正负情况，找出与总和A正负一致的N个压力灵敏度最大的透镜间隔，N为≥1的整数；其次对选出的N个透镜间隔针对氦气进行焦面或倍率的压力灵敏度测量；再次根据选出的N个透镜间隔在S1和S3中的压力灵敏度测量值，计算氦气对应的压力灵敏度减小率；最后计算该N个透镜间隔内氦气的比例，使各个透镜间隔的压力灵敏度测量数据之和接近于0。本发明简化了光刻物镜结构的设计难度，节省了物镜开发成本，提高了光刻物镜的套准精度。
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