发明授权
CN102955371B 一种深紫外光刻照明系统中的相干因子调整系统
失效 - 权利终止
- 专利标题: 一种深紫外光刻照明系统中的相干因子调整系统
- 专利标题(英): Coherent factor adjusting system in deep ultraviolet lithography lighting system
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申请号: CN201210264944.0申请日: 2012-07-27
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公开(公告)号: CN102955371B公开(公告)日: 2014-11-26
- 发明人: 卢亮 , 张海波 , 廖志杰 , 林妩媚 , 邢廷文 , 甘大春 , 何毅
- 申请人: 中国科学院光电技术研究所
- 申请人地址: 四川省成都市双流350信箱
- 专利权人: 中国科学院光电技术研究所
- 当前专利权人: 中国科学院光电技术研究所
- 当前专利权人地址: 四川省成都市双流350信箱
- 代理机构: 北京科迪生专利代理有限责任公司
- 代理商 成金玉; 李新华
- 主分类号: G03F7/20
- IPC分类号: G03F7/20
摘要:
一种深紫外光刻照明系统中的相干因子调整系统,包括:聚光镜组,位于照明系统的照明光路上,负责将光会聚到指定位置;匀光棒,位于系统所述聚光镜组的光路上,聚光镜组会聚的光经由匀光棒的入射端入射并经由出射端出射;控制装置,用来固定多根不同口径比的匀光棒,装置有平行于照明系统光轴的旋转轴,装置绕此轴旋转调整匀光棒的位置,使指定的匀光棒置于照明系统光路中参与调节照明系统的相干因子;所述控制装置由高精度旋转台驱动;中继透镜位于所述匀光棒的出射光路上;照明场,位于所述中继透镜的出光光路上。本发明能用简单的方法调节系统的相干因子,或者简化变焦透镜的设计复杂度,达到简化结构降低成本的目的。
公开/授权文献
- CN102955371A 一种深紫外光刻照明系统中的相干因子调整系统 公开/授权日:2013-03-06
IPC分类: