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发明公开
CN103003915A 靶材背管的磁铁配置、包括所述磁铁配置的靶材背管、圆柱状靶材组件及溅射系统 有权

  • 专利标题： 靶材背管的磁铁配置、包括所述磁铁配置的靶材背管、圆柱状靶材组件及溅射系统
  • 专利标题（英）： Magnet arrangement for a target backing tube, target backing tube including the same, cylindrical target assembly and sputtering system
  • 申请号： CN201180034908.9
    申请日： 2011-06-22
  • 公开(公告)号： CN103003915A
    公开(公告)日： 2013-03-27
  • 发明人: A·洛珀 , J·格里尔梅耶 , W·克罗克
  • 申请人： 应用材料公司
  • 申请人地址： 美国加利福尼亚州
  • 专利权人： 应用材料公司
  • 当前专利权人： 应用材料公司
  • 当前专利权人地址： 美国加利福尼亚州
  • 代理机构： 上海专利商标事务所有限公司
  • 代理商 胡林岭; 侯颖媖
  • 优先权： 10169891.8 2010.07.16 EP
  • 国际申请： PCT/EP2011/060517 2011.06.22
  • 国际公布： WO2012/007256 EN 2012.01.19
  • 进入国家日期： 2013-01-15
  • 主分类号： H01J37/34
  • IPC分类号： H01J37/34
靶材背管的磁铁配置、包括所述磁铁配置的靶材背管、圆柱状靶材组件及溅射系统
摘要：
本文关于用于溅射系统的磁铁配置(800,900,1000)，其中磁铁配置适于溅射系统的可旋转靶材(126a,126b)并包含：第一磁铁元件(810,910,1010)，所述第一磁铁元件沿第一轴(X)延伸；第二磁铁元件(820,920,1020)，所述第二磁铁元件环绕第一磁铁元件与第一平面(A)对称地设置；其中第二磁铁元件包含至少一个扇区(826,827,926,927,1028)，所述至少一个扇区与第一平面相交；且其中至少一个扇区的磁轴(822,922,1022)相对第二平面(B)而倾斜，所述第二平面与第一轴(X)正交。此外，本文关于用于溅射系统的可旋转靶材的靶材背管、用于溅射系统的圆柱状可旋转靶材及溅射系统。
摘要（英）：

The disclosure relates to a magnet arrangement (800, 900, 1000) for a sputtering system, wherein the magnet arrangement is adapted for a rotatable target (126a, 126b) of a sputtering system and includes: a first magnet element (810, 910, 1010) extending along a first axis (X); a second magnet element (820, 920, 1020) being disposed around the first magnet element symmetrically to a first plane (A); wherein the second magnet element includes at least one magnet section (826, 827, 926, 927, 1028) intersecting the first plane; and wherein a magnetic axis (822, 922, 1022) of the at least one magnet section is inclined with respect to a second plane (B) being orthogonal to the first axis(X). Further, the disclosure relates to a target backing tube for a rotatable target of a sputtering system, a cylindrical rotatable target for a sputtering system, and a sputtering system.

公开/授权文献
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