Invention Publication
- Patent Title: 化合物半导体器件及其制造方法
- Patent Title (English): Compound semiconductor device and method for fabricating the same
-
Application No.: CN201210266879.5Application Date: 2012-07-30
-
Publication No.: CN103035700APublication Date: 2013-04-10
- Inventor: 今田忠纮
- Applicant: 富士通株式会社
- Applicant Address: 日本神奈川县
- Assignee: 富士通株式会社
- Current Assignee: 创世舫电子日本株式会社
- Current Assignee Address: 日本神奈川县
- Agency: 北京集佳知识产权代理有限公司
- Agent 顾晋伟; 董文国
- Priority: 2011-214723 2011.09.29 JP
- Main IPC: H01L29/778
- IPC: H01L29/778 ; H01L29/06 ; H01L21/335 ; H01L29/861 ; H01L21/329

Abstract:
本发明提供化合物半导体器件及其制造方法。所述化合物半导体器件包括:具有第一极性的电子传输层、形成在电子传输层上方并且具有第二极性的p型盖层以及形成在p型盖层上的并且具有第一极性的n型盖层。n型盖层包括具有不同厚度的部分。
Public/Granted literature
- CN103035700B 化合物半导体器件及其制造方法 Public/Granted day:2016-01-20
Information query
IPC分类: