- 专利标题: 磁记录介质用软磁性合金、溅射靶材以及磁记录介质
- 专利标题(英): Soft magnetic alloy for magnetic recording medium, sputtering target material, and magnetic recording medium
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申请号: CN201180040330.8申请日: 2011-08-19
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公开(公告)号: CN103098135A公开(公告)日: 2013-05-08
- 发明人: 泽田俊之 , 长谷川浩之 , 岸田敦
- 申请人: 山阳特殊制钢株式会社
- 申请人地址: 日本兵库县
- 专利权人: 山阳特殊制钢株式会社
- 当前专利权人: 山阳特殊制钢株式会社
- 当前专利权人地址: 日本兵库县
- 代理机构: 中科专利商标代理有限责任公司
- 代理商 龚敏
- 优先权: 2010-186876 2010.08.24 JP
- 国际申请: PCT/JP2011/068790 2011.08.19
- 国际公布: WO2012/026405 JA 2012.03.01
- 进入国家日期: 2013-02-20
- 主分类号: G11B5/667
- IPC分类号: G11B5/667 ; C22C19/07 ; C23C14/34 ; G11B5/851
摘要:
本发明提供具有低矫顽磁力、高无定形性、高耐腐蚀性及高硬度的垂直磁记录介质用软磁性合金、以及用于制作该合金的薄膜的溅射靶。该合金以at.%计含有Zr及Hf的1种或2种合计为6~20%、含有B1~20%、含有Ti、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Ni、Al、Si、P的1种或2种以上合计0~7%,剩余部分含有Co和/或Fe、以及不可避免的杂质。该合金还满足6≤2×(Zr%+Hf%)-B%≤16、以及0≤Fe%/(Fe%+Co%)<020。
公开/授权文献
- CN103098135B 磁记录介质用软磁性合金、溅射靶材以及磁记录介质 公开/授权日:2016-01-20
IPC分类: