本发明涉及测绘领域，具体涉及轨道维护基点平面测量方法，其特征在于：所述方法至少包括以下步骤：将观测仪器架设在任一所述轨道维护基点上，将该轨道维护基点作为第一设站点；观测所述第一设站点沿轨道方向前后至少各三对CPⅢ点；观测所述第一设站点本身、其对侧轨道上沿轨道方向前后的各一个轨道维护基点以及其同侧轨道上相隔一个轨道维护基点的前一轨道维护基点；观测完毕后，将所述观测仪器移至第二设站点并进行观测，所述第二设站点位于所述第一设站点的对侧轨道前方上，且所述第一设站点与所述第二设站点之间相隔两对所述CPⅢ点。本发明的优点是：能够在进行轨道控制（CPIII）时将所有的轨道维护点一并观测。