用于光蚀刻法的组合物和防反射涂层
摘要:
本发明提供一种组合物,其包括至少以下的 至少一种。A和B:A)含有以下结构单元1的聚合物,其中L是CX-CYZ,其中X,Y,和Z各自独立地选自氢,烷基,或者取代的烷基;和M是亚烷基,亚芳基,取代的亚烷基,取代的亚芳基,或者C(O)O-W-,其中W是亚烷基或者取代的亚烷基;和R’,R”,和R”’各自独立地选自芳族烃,脂族烃,或者取代的烃,其包括O,N,S,或者Si原子中的一个或者多个,条件是R’,R”,和R”’中的至少一个选自烷氧基,芳氧基,羟基,卤素,羧基,或者碳酸酯;和p是1至10,000的整数;和条件是该聚合物不包括多面体低聚倍半硅氧烷(POSS)结构;和B)由第一组合物形成的聚合物,所述第一组合物包括本申请中所述的化合物F1,化合物F2,化合物F3和/或化合物F4中的
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