发明公开
CN103119112A 粘接膜及晶片加工用带
无效 - 撤回
- 专利标题: 粘接膜及晶片加工用带
- 专利标题(英): Adhesive film and wafer-processing tape
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申请号: CN201080069208.9申请日: 2010-10-25
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公开(公告)号: CN103119112A公开(公告)日: 2013-05-22
- 发明人: 铃木俊宏 , 石渡伸一 , 盛岛泰正 , 金永锡
- 申请人: 古河电气工业株式会社
- 申请人地址: 日本东京
- 专利权人: 古河电气工业株式会社
- 当前专利权人: 古河电气工业株式会社
- 当前专利权人地址: 日本东京
- 代理机构: 中科专利商标代理有限责任公司
- 代理商 雒运朴
- 国际申请: PCT/JP2010/068871 2010.10.25
- 国际公布: WO2012/056511 JA 2012.05.03
- 进入国家日期: 2013-03-21
- 主分类号: C09J7/02
- IPC分类号: C09J7/02 ; C09J201/00 ; H01L21/301 ; H01L21/52 ; H01L21/683
摘要:
本发明提供在制作预切割加工成与半导体晶片的形状对应的形状的晶片加工用带时的粘接剂层的卷绕步骤中,可以防止卷绕的粘接剂层断裂,并且可以提高经预切割加工的晶片加工用带的生产性的粘接膜,及使用该粘接膜所制作的晶片加工用带。相对于粘接剂层(12)自脱模薄膜(11)的每单位剥离力,粘接剂层(12)的每相同单位的断裂强度为87.5倍以上,优选为100倍以上。