液相化学沉积装置、方法及其制品

发明公开

CN103119700A 液相化学沉积装置、方法及其制品失效 - 权利终止

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专利标题： 液相化学沉积装置、方法及其制品
专利标题（英）： Liquid chemical deposition apparatus and process and products therefrom
申请号： CN201180045823.0

申请日： 2011-07-25
公开(公告)号： CN103119700A

公开(公告)日： 2013-05-22
发明人: L·皮尔·德罗什蒙 , 亚历山大·J·科瓦斯
申请人： L·皮尔·德罗什蒙
申请人地址： 美国德克萨斯州
专利权人： L·皮尔·德罗什蒙
当前专利权人： L·皮尔·德罗什蒙
当前专利权人地址： 美国德克萨斯州
代理机构： 北京连和连知识产权代理有限公司
代理商 杨帆
优先权： 12/843,112 2010.07.26 US
国际申请： PCT/US2011/045180 2011.07.25
国际公布： WO2012/018581 EN 2012.02.09
进入国家日期： 2013-03-22
主分类号： H01L21/365
IPC分类号： H01L21/365 ; B05D3/02

摘要：

一种方法、装置以及由此制造的无定形态或结晶态的材料，其具有在分子水平上均匀的分子分布的多种元素。

摘要（英）：

A method, apparatus and material produced thereby in an amorphous or crystalline form having multiple elements with a uniform molecular distribution of elements at the molecular level.

公开/授权文献

CN103119700B 液相化学沉积装置、方法及其制品公开/授权日：2016-09-07

信息查询

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IPC分类:

H	电学
H01	基本电气元件
H01L	半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件（使用半导体器件的测量入G01；一般电阻器入H01C；磁体、电感器、变压器入H01F；一般电容器入H01G；电解型器件入H01G9/00；电池组、蓄电池入H01M；波导管、谐振器或波导型线路入H01P；线路连接器、汇流器入H01R；受激发射器件入H01S；机电谐振器入H03H；扬声器、送话器、留声机拾音器或类似的声机电传感器入H04R；一般电光源入H05B；印刷电路、混合电路、电设备的外壳或结构零部件、电气元件的组件的制造入H05K；在具有特殊应用的电路中使用的半导体器件见应用相关的小类）
H01L21/00	专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/02	.半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21/04	..至少具有一个跃变势垒或表面势垒的器件，例如PN结、耗尽层、载体集结层
H01L21/34	...具有H01L21/06，H01L21/16及H01L21/18各组不包含的或有或无杂质，例如掺杂材料的半导体的器件
H01L21/36	....半导体材料在基片上的沉积，例如外延生长
H01L21/365	.....应用气态化合物的还原或分解产生固态凝结物的，即化学沉积