发明公开
CN103172632A 萘二酰亚胺的甲锡烷基衍生物与萘嵌苯的反应产物
失效 - 权利终止
- 专利标题： 萘二酰亚胺的甲锡烷基衍生物与萘嵌苯的反应产物
- 专利标题（英）： Reaction product of stannyl derivative of naphthalimide and rylene
-
申请号： CN201110462506.0申请日： 2011-12-22
-
公开(公告)号： CN103172632A公开(公告)日： 2013-06-26
- 发明人: 王朝晖 , 岳晚
- 申请人： 中国科学院化学研究所
- 申请人地址： 北京市海淀区中关村北一街2号
- 专利权人： 中国科学院化学研究所
- 当前专利权人： 中国科学院化学研究所
- 当前专利权人地址： 北京市海淀区中关村北一街2号
- 代理机构： 中国专利代理(香港)有限公司
- 代理商 段家荣; 李炳爱
- 主分类号： C07D471/22
- IPC分类号： C07D471/22 ; C07D519/00 ; C09D11/00 ; H01L51/00
摘要：
NDI锡化合物与萘嵌苯化合物反应形成NDI-萘嵌苯化合物。萘嵌苯化合物可以是苝化合物。NDI-萘嵌苯化合物能够在有机电子器件(包括场效应晶体管)中使用。
公开/授权文献
- CN103172632B 萘二酰亚胺的甲锡烷基衍生物与萘嵌苯的反应产物 公开/授权日：2016-12-14
