发明公开
- 专利标题： 高分子化合物及包含其的用于液浸曝光工艺的抗蚀剂保护膜组合物
- 专利标题（英）： Polymer compound, and resist-protecting film composition including same for a liquid immersion exposure process
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申请号： CN201180055444.X申请日： 2011-10-14
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公开(公告)号： CN103221437A公开(公告)日： 2013-07-24
- 发明人: 韩万浩 , 朴钟庆 , 金炫辰 , 金宰贤
- 申请人： 株式会社东进世美肯
- 申请人地址： 韩国仁川广域市
- 专利权人： 株式会社东进世美肯
- 当前专利权人： 株式会社东进世美肯
- 当前专利权人地址： 韩国仁川广域市
- 代理机构： 北京银龙知识产权代理有限公司
- 代理商 钟晶; 金鲜英
- 优先权： 10-2010-0114558 2010.11.17 KR; 10-2011-0024347 2011.03.18 KR
- 国际申请： PCT/KR2011/007655 2011.10.14
- 国际公布： WO2012/067349 KO 2012.05.24
- 进入国家日期： 2013-05-17
- 主分类号： C08F20/10
- IPC分类号： C08F20/10 ; C08F22/06 ; C08F12/14 ; C08L33/04 ; G03F7/027
摘要：
本发明提供高分子化合物及包含其的用于液浸曝光工艺的抗蚀剂保护膜组合物。
公开/授权文献
- CN103221437B 高分子化合物及包含其的用于液浸曝光工艺的抗蚀剂保护膜组合物 公开/授权日：2016-02-17
IPC分类:
