发明公开

定位系统
摘要:
本发明公开了一种定位系统,其包括:一第一工作机台、一第二工作机台、及一承载座。第二工作机台相距第一工作机台一预定距离。承载座定位于第一工作机台与第二工作机台两者中的其中一个上,其中承载座具有至少一个固定式定位件,至少一基板通过上述至少一固定式定位件以定位于承载座上,且至少一遮罩通过上述至少一固定式定位件以定位于基板上。上述至少一基板具有至少一个对应于上述至少一固定式定位件的基板定位孔,上述至少一遮罩具有至少一个对应于上述至少一基板定位孔的遮罩定位孔,且上述至少一固定式定位件依序穿过上述至少一基板定位孔与上述至少一遮罩定位孔。本发明可有效提升发光二极管晶粒的一次打线与二次打线的打线良率。
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