发明公开
CN103264022A 基板清洗装置、系统及方法
失效 - 权利终止
- 专利标题: 基板清洗装置、系统及方法
- 专利标题(英): Substrate cleaning device, system and method
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申请号: CN201310179885.1申请日: 2013-05-15
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公开(公告)号: CN103264022A公开(公告)日: 2013-08-28
- 发明人: 张毅 , 翁铭廷 , 郭知广
- 申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥鑫晟光电科技有限公司
- 申请人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,合肥鑫晟光电科技有限公司
- 当前专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,合肥鑫晟光电科技有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 代理机构: 北京同达信恒知识产权代理有限公司
- 代理商 杜秀科
- 主分类号: B08B3/02
- IPC分类号: B08B3/02
摘要:
本发明涉及显示装置清洗技术领域,公开了一种基板清洗装置、系统及方法,所述基板清洗装置包括:水箱,与所述水箱相连的水泵,与所述水泵相连的多个喷嘴,所述多个喷嘴的流出流体喷淋于基板,还包括设置于所述基板清洗装置内的用于在流体流出所述喷嘴之前对流体进行加热的加热器。在本发明技术方案中,由于加热器的加热作用,可以提高清洗基板的流体的温度,流体中的分子运动加剧,因此,提高了有机异物在流体中的溶解度,增大了有机异物的去除几率,进而提高了产品的良率。
公开/授权文献
- CN103264022B 基板清洗装置、系统及方法 公开/授权日:2015-04-08
IPC分类: