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公开(公告)号：CN105045246B
公开(公告)日：2017-12-29
申请号：CN201510515827.0
申请日：2015-08-20
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥鑫晟光电科技有限公司
IPC分类号： G05B19/418
CPC分类号： G05B19/4188 , G05B19/4083 , G05B2219/31001 , G05B2219/31176 , H04B1/48 , Y02P90/10 , Y02P90/185 , Y02P90/24
摘要： 本发明提供了一种CIM系统及控制方法、生产信息化系统，该CIM系统包括综合控制设备和综合通信设备，所述综合控制设备包括接口模块和综合控制模块；所述接口模块，设置为接收控制命令以及确认该控制命令所针对的被控制设备；所述综合控制模块，设置为根据所述控制命令获得能够被所述被控制设备识别的控制指令后发送至所述综合通信设备；所述综合通信设备设置为确定与所述被控制设备之间的通信协议类型，并将所述控制指令封装为相应通信协议类型的控制消息发送到所述被控制设备。本发明提供的计算机集成制造系统能够大幅提高对多个被控制设备的控制效率。
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公开(公告)号：CN103286091B
公开(公告)日：2017-09-19
申请号：CN201310231298.2
申请日：2013-06-09
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥鑫晟光电科技有限公司
CPC分类号： C11D11/0047 , C11D7/261 , C11D7/263 , C11D11/007 , H01L21/67028 , H01L21/67051 , H01L51/0096
摘要： 本发明涉及清洗技术领域，特别涉及一种基板的清洗方法。该基板的清洗方法，包括：对基板进行预加热处理；采用清洗剂对预处理过的基板进行溶解清洗；对清洗后的基板进行二次冲洗。本发明提供的基板的清洗方法，通过加热基板同时采用清洗剂对基板进行溶解清洗，可有效增大有机异物的分子活性，促进清洗剂与有机异物的溶解度，进而有效去除细小的有机异物，提高清洗基板的洁净度，进而提升产品的良率。
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公开(公告)号：CN103301761B
公开(公告)日：2015-01-07
申请号：CN201310231335.X
申请日：2013-06-09
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥鑫晟光电科技有限公司
CPC分类号： B08B3/02 , B08B11/00 , B08B2203/007
摘要： 本发明涉及显示装置制备工艺技术领域，具体涉及一种清洗设备的气液混合装置以及包括该气液混合装置的清洗设备。一种清洗设备的气液混合装置，包括混合腔室以及分别连通至所述混合腔室的高温气体通道以及高温液体通道，所述高温气体通道包括至少两个输出流量不同的高温气体通道。本发明所提供的清洗设备的气液混合装置，通过设置不同流量的高温气体通道，利用流量较大的高温气体通道实现快速输入高温气体，利用流量较小的第二高温气体通道精确控制混合到高温液体中的高温气体的比例。
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公开(公告)号：CN103286091A
公开(公告)日：2013-09-11
申请号：CN201310231298.2
申请日：2013-06-09
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥鑫晟光电科技有限公司
CPC分类号： C11D11/0047 , C11D7/261 , C11D7/263 , C11D11/007 , H01L21/67028 , H01L21/67051 , H01L51/0096
摘要： 本发明涉及清洗技术领域，特别涉及一种基板的清洗方法。该基板的清洗方法，包括：对基板进行预加热处理；采用清洗剂对预处理过的基板进行溶解清洗；对清洗后的基板进行二次冲洗。本发明提供的基板的清洗方法，通过加热基板同时采用清洗剂对基板进行溶解清洗，可有效增大有机异物的分子活性，促进清洗剂与有机异物的溶解度，进而有效去除细小的有机异物，提高清洗基板的洁净度，进而提升产品的良率。
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公开(公告)号：CN103264022A
公开(公告)日：2013-08-28
申请号：CN201310179885.1
申请日：2013-05-15
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥鑫晟光电科技有限公司
IPC分类号： B08B3/02
CPC分类号： B08B3/02 , H01L21/67051 , H01L21/6776
摘要： 本发明涉及显示装置清洗技术领域，公开了一种基板清洗装置、系统及方法，所述基板清洗装置包括：水箱，与所述水箱相连的水泵，与所述水泵相连的多个喷嘴，所述多个喷嘴的流出流体喷淋于基板，还包括设置于所述基板清洗装置内的用于在流体流出所述喷嘴之前对流体进行加热的加热器。在本发明技术方案中，由于加热器的加热作用，可以提高清洗基板的流体的温度，流体中的分子运动加剧，因此，提高了有机异物在流体中的溶解度，增大了有机异物的去除几率，进而提高了产品的良率。
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公开(公告)号：CN103264022B
公开(公告)日：2015-04-08
申请号：CN201310179885.1
申请日：2013-05-15
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥鑫晟光电科技有限公司
IPC分类号： B08B3/02
CPC分类号： B08B3/02 , H01L21/67051 , H01L21/6776
摘要： 本发明涉及显示装置清洗技术领域，公开了一种基板清洗装置、系统及方法，所述基板清洗装置包括：水箱，与所述水箱相连的水泵，与所述水泵相连的多个喷嘴，所述多个喷嘴的流出流体喷淋于基板，还包括设置于所述基板清洗装置内的用于在流体流出所述喷嘴之前对流体进行加热的加热器。在本发明技术方案中，由于加热器的加热作用，可以提高清洗基板的流体的温度，流体中的分子运动加剧，因此，提高了有机异物在流体中的溶解度，增大了有机异物的去除几率，进而提高了产品的良率。
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公开(公告)号：CN105045246A
公开(公告)日：2015-11-11
申请号：CN201510515827.0
申请日：2015-08-20
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥鑫晟光电科技有限公司
IPC分类号： G05B19/418
CPC分类号： G05B19/4188 , G05B19/4083 , G05B2219/31001 , G05B2219/31176 , H04B1/48 , Y02P90/10 , Y02P90/185 , Y02P90/24 , G05B19/418
摘要： 本发明提供了一种CIM系统及控制方法、生产信息化系统，该CIM系统包括综合控制设备和综合通信设备，所述综合控制设备包括接口模块和综合控制模块；所述接口模块，设置为接收控制命令以及确认该控制命令所针对的被控制设备；所述综合控制模块，设置为根据所述控制命令获得能够被所述被控制设备识别的控制指令后发送至所述综合通信设备；所述综合通信设备设置为确定与所述被控制设备之间的通信协议类型，并将所述控制指令封装为相应通信协议类型的控制消息发送到所述被控制设备。本发明提供的计算机集成制造系统能够大幅提高对多个被控制设备的控制效率。
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公开(公告)号：CN103301761A
公开(公告)日：2013-09-18
申请号：CN201310231335.X
申请日：2013-06-09
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥鑫晟光电科技有限公司
CPC分类号： B08B3/02 , B08B11/00 , B08B2203/007
摘要： 本发明涉及显示装置制备工艺技术领域，具体涉及一种清洗设备的气液混合装置以及包括该气液混合装置的清洗设备。一种清洗设备的气液混合装置，包括混合腔室以及分别连通至所述混合腔室的高温气体通道以及高温液体通道，所述高温气体通道包括至少两个输出流量不同的高温气体通道。本发明所提供的清洗设备的气液混合装置，通过设置不同流量的高温气体通道，利用流量较大的高温气体通道实现快速输入高温气体，利用流量较小的第二高温气体通道精确控制混合到高温液体中的高温气体的比例。
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公开(公告)号：CN118871882A
公开(公告)日：2024-10-29
申请号：CN202380007961.2
申请日：2023-02-28
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
IPC分类号： G06F3/044
摘要： 一种触控结构、触控显示面板及触控装置，涉及触控技术领域。触控结构的外围区包括围绕触控区的边缘区和由边缘区的局部向外延伸的引出区，引出区具有绑定部；触控结构包括位于触控区的触控电极和位于外围区的引线，触控电极通过引线与绑定部连接；触控电极包括第一触控电极和第二触控电极，第一触控电极沿第一方向延伸且沿第二方向间隔分布；第二触控电极沿第二方向延伸且沿第一方向间隔分布；第一触控电极与第二触控电极绝缘设置；引线包括第一引线和第二引线，第一触控电极通过第一引线与绑定部连接，第二触控电极通过第二引线与绑定部连接；至少部分第一引线包括主体部和收窄部，收窄部的至少部分的横截面小于主体部的横截面。
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公开(公告)号：CN118765126A
公开(公告)日：2024-10-11
申请号：CN202410814785.X
申请日：2024-06-21
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
IPC分类号： H10K59/12 , H10K59/131 , H10K59/121
摘要： 本公开的实施例提供了一种显示面板及显示装置，涉及显示技术领域，用于提升显示面板的显示均一性，并提高显示面板的PPI。该显示面板包括阵列式排布的多个像素电路，所述像素电路包括存储电容器，所述存储电容器包括第二极板。所述显示面板还包括衬底、第四导电层和第二导电层。第四导电层位于所述衬底上，所述第四导电层包括多条初始化信号线，所述初始化信号线沿第二方向延伸，第二方向为多个像素电路排布的列方向。第二导电层位于第四导电层靠近衬底的一侧，存储电容器的第二极板位于第二导电层。其中，所述初始化信号线在所述衬底上的正投影和一列所述像素电路的多个存储电容器的第二极板在所述衬底上的正投影交叠。上述显示面板用于显示图像。
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