发明公开
CN103316862A 一种基板清洗装置
失效 - 权利终止
- 专利标题: 一种基板清洗装置
- 专利标题(英): Substrate cleaning device
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申请号: CN201310293522.0申请日: 2013-07-12
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公开(公告)号: CN103316862A公开(公告)日: 2013-09-25
- 发明人: 马青青 , 侯智 , 吴代吾 , 杨子衡 , 张洪波 , 王百强
- 申请人: 合肥京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
- 申请人地址: 安徽省合肥市铜陵北路2177号
- 专利权人: 合肥京东方光电科技有限公司,京东方科技集团股份有限公司
- 当前专利权人: 合肥京东方光电科技有限公司,京东方科技集团股份有限公司
- 当前专利权人地址: 安徽省合肥市铜陵北路2177号
- 代理机构: 北京同达信恒知识产权代理有限公司
- 代理商 黄志华
- 主分类号: B08B3/02
- IPC分类号: B08B3/02 ; B08B13/00
摘要:
本发明公开了一种基板清洗装置,包括内部具有清洗室的壳体;枢装于壳体、且沿基板移动方向并排分布的多个喷淋管道,每一个喷淋管道具有将喷淋管道内的液体导向基板被清洁面的若干个喷液口,每一个喷淋管道的一端具有与其同轴固定的传动齿轮;通过传动齿轮驱动喷淋管道同频率往复转动的驱动系统,其中一部分喷淋管道的往复转动方向与另一部分喷淋管道的往复转动方向相反。本发明提供的基板清洗装置能够保证对基板移动速度影响较小的前提下,提高对基板表面的清洁效果。
公开/授权文献
- CN103316862B 一种基板清洗装置 公开/授权日:2016-01-06
IPC分类: