发明公开
CN103341689A 拘束抑制高功率激光深熔焊光致等离子体的装置和方法
失效 - 权利终止
- 专利标题: 拘束抑制高功率激光深熔焊光致等离子体的装置和方法
- 专利标题(英): Device and method for restraining laser-induced plasma in high power laser deep penetration welding
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申请号: CN201310282700.X申请日: 2013-07-05
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公开(公告)号: CN103341689A公开(公告)日: 2013-10-09
- 发明人: 蔡艳 , 孙大为 , 朱俊杰 , 吴岳 , 王永贵 , 杨茜
- 申请人: 上海交通大学
- 申请人地址: 上海市闵行区东川路800号
- 专利权人: 上海交通大学
- 当前专利权人: 上海交通大学
- 当前专利权人地址: 上海市闵行区东川路800号
- 代理机构: 上海旭诚知识产权代理有限公司
- 代理商 丁惠敏
- 主分类号: B23K26/16
- IPC分类号: B23K26/16 ; B23K26/14
摘要:
本发明公开了一种拘束抑制高功率激光深熔焊光致等离子体的装置,包括冷却铜块、浮动气帘和定位部件。冷却铜块包括轴对称的两个部分,朝向焊缝侧设有弧形面,冷却铜块依靠循环水冷却;冷却铜块底部设有浮动气帘,浮动气帘均匀喷出一定流量的惰性气体;定位部件用于将拘束结构固定在激光焊接工作头上,保持拘束结构与激光焊接工作头的相对位置固定。同时公开了拘束抑制高功率激光深熔焊光致等离子体的方法。本发明的装置和方法在高功率激光焊过程中抑制光致等离子体三维方向的膨胀,降低光致等离子体的波动幅度,从而获得稳定的焊接过程和良好的焊缝成形,能够广泛地应用于高功率激光深熔焊领域。
公开/授权文献
- CN103341689B 拘束抑制高功率激光深熔焊光致等离子体的装置和方法 公开/授权日:2015-12-09
IPC分类: