发明授权
- 专利标题: 附载体铜箔
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申请号: CN201280009951.4申请日: 2012-08-30
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公开(公告)号: CN103392028B公开(公告)日: 2016-01-06
- 发明人: 永浦友太 , 坂口和彦
- 申请人: JX日矿日石金属株式会社
- 申请人地址: 日本东京都
- 专利权人: JX日矿日石金属株式会社
- 当前专利权人: 捷客斯金属株式会社
- 当前专利权人地址: 日本东京都
- 代理机构: 中国专利代理(香港)有限公司
- 代理商 蔡晓菡; 孟慧岚
- 优先权: 2011-189183 2011.08.31 JP
- 国际申请: PCT/JP2012/072052 2012.08.30
- 国际公布: WO2013/031913 JA 2013.03.07
- 进入国家日期: 2013-08-22
- 主分类号: C23C28/00
- IPC分类号: C23C28/00 ; B32B15/01 ; C25D7/06
摘要:
本发明提供在向绝缘基板层叠的工序前极薄铜层不从载体剥离、而在向绝缘基板层叠的工序后却能剥离的附载体铜箔。该附载体铜箔具备铜箔载体、层叠在铜箔载体上的中间层、和层叠在中间层上的极薄铜层,中间层由与铜箔载体的界面连接的Ni层和与极薄铜层的界面连接的Cr层构成,Ni层中存在1000~40000μg/dm2的Ni,Cr层中存在10~100μg/dm2的Cr。
公开/授权文献
- CN103392028A 附载体铜箔 公开/授权日:2013-11-13
IPC分类: