附载体铜箔
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110863221A

    公开(公告)日:2020-03-06

    申请号:CN201911075883.1

    申请日:2013-11-20

    IPC分类号: C25D1/04 C25D7/06 H05K1/09

    摘要: 本发明公开了附载体铜箔。具体地,本发明提供一种适于形成细间距的附载体铜箔。本发明的附载体铜箔依序具备载体、剥离层、极薄铜层、及任意的树脂层,并且极薄铜层表面的Rz的平均值是利用接触式粗糙度计依据JIS B0601-1982进行测定而为1.5μm以下,且Rz的标准偏差为0.1μm以下。

    附载体铜箔
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110117799A

    公开(公告)日:2019-08-13

    申请号:CN201910106665.3

    申请日:2013-11-20

    IPC分类号: C25D1/04 C25D7/06 H05K1/09

    摘要: 本发明提供一种适于形成细间距的附载体铜箔。本发明的附载体铜箔依序具备载体、剥离层、极薄铜层、及任意的树脂层,并且极薄铜层表面的Rz的平均值是利用接触式粗糙度计依据JIS B0601-1982进行测定而为1.5μm以下,且Rz的标准偏差为0.1μm以下,上述极薄铜层具有选自由耐热层、防锈层、铬酸盐处理层及硅烷偶合处理层所组成的群中1种、2种、3种或4种的层。

    表面处理铜箔、附载体铜箔、基材、及树脂基材

    公开(公告)号:CN109951964A

    公开(公告)日:2019-06-28

    申请号:CN201910187117.8

    申请日:2014-07-23

    摘要: 本发明涉及一种表面处理铜箔、附载体铜箔、基材、及树脂基材。提供一种可在去除铜箔后赋予基材面的轮廓形状的表面处理铜箔,该轮廓形状可维持微细配线形成性,且实现无电镀铜被膜的良好密合力。提供一种基材,从表面处理层侧将表面处理铜箔贴合在基材,将该表面处理铜箔去除时,该基材的该铜箔去除侧表面的三维表面积B与二维表面积A的比B/A为1.01~1.5。提供一种树脂基材,从表面处理层侧将表面处理铜箔贴合在树脂基材,将该表面处理铜箔去除时,该树脂基材的该铜箔去除侧表面的黑色面积率为10~50%,且该树脂基材的该铜箔去除侧表面的孔的直径平均值为0.03~1.0μm。

    附载体铜箔
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN108277509A

    公开(公告)日:2018-07-13

    申请号:CN201711470157.0

    申请日:2013-11-20

    IPC分类号: C25D1/04 C25D7/06 H05K1/09

    摘要: 本发明公开了附载体铜箔。具体地,本发明提供一种适于形成细间距的附载体铜箔。本发明的附载体铜箔依序具备载体、剥离层、极薄铜层、及任意的树脂层,并且极薄铜层表面的Rz的平均值是利用接触式粗糙度计依据JIS B0601-1982进行测定而为1.5μm以下,且Rz的标准偏差为0.1μm以下。