发明公开

光学测量装置
摘要:
本发明公开光学测量装置,其包括测量仪本体、光源、具有至少5端口的W形光纤及光谱仪;本发明操作简单,提供的光学测量装置包含垂直入射和斜入射的两个测量装置,可用来测量单层或多层薄膜形成的三维结构的膜厚、临界尺度(Critical Dimension)、空间形貌和材料特性,提高了样品测量的精度。另外,垂直入射部分还可以倾斜至54.7度,用来测量单晶硅太阳能样品。斜入射部分也可实现多角度的切换,摩擦片可以使整个切换工程更加平稳。
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