发明公开
CN103579341A 晶体管以及用于制造该晶体管的方法
无效 - 撤回
- 专利标题: 晶体管以及用于制造该晶体管的方法
- 专利标题(英): Transistor and method for manufacturing same
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申请号: CN201310084170.8申请日: 2013-03-15
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公开(公告)号: CN103579341A公开(公告)日: 2014-02-12
- 发明人: 西尾让司 , 河野洋志 , 铃木拓马 , 清水达雄 , 四户孝
- 申请人: 株式会社东芝
- 申请人地址: 日本东京都
- 专利权人: 株式会社东芝
- 当前专利权人: 株式会社东芝
- 当前专利权人地址: 日本东京都
- 代理机构: 永新专利商标代理有限公司
- 代理商 陈松涛; 夏青
- 优先权: 2012-170281 2012.07.31 JP
- 主分类号: H01L29/78
- IPC分类号: H01L29/78 ; H01L21/336
摘要:
根据实施例,一种晶体管,包括:结构体;绝缘膜;控制电极;第一电极;以及第二电极。所述结构体包括第一至第三半导体区,并且包括具有第一元素和第二元素的复合半导体。所述第一电极与所述第三半导体区电连续。所述第二电极与所述第一半导体区电连续。所述结构体具有设置在所述第二半导体区的下端上的第一区域以及除了所述第一区域之外的第二区域。所述第一区域是通过使得所述第二元素的气源的浓度与所述第一元素的气源的浓度的比率大于1.0形成的区域。所述第一区域中的所述第一导电类型的杂质浓度高于所述第二区域中的所述第一导电类型的杂质浓度。
IPC分类: