- 专利标题: 利用动态束成形进行改善均匀度控制的方法和装置
- 专利标题(英): Method and apparatus for improved uniformity control with dynamic beam shaping
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申请号: CN201280026587.2申请日: 2012-03-29
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公开(公告)号: CN103582927A公开(公告)日: 2014-02-12
- 发明人: 爱德华·艾伊斯勒
- 申请人: 艾克塞利斯科技公司
- 申请人地址: 美国马萨诸塞州
- 专利权人: 艾克塞利斯科技公司
- 当前专利权人: 艾克塞利斯科技公司
- 当前专利权人地址: 美国马萨诸塞州
- 代理机构: 中科专利商标代理有限责任公司
- 代理商 倪斌
- 优先权: 13/077,329 2011.03.31 US
- 国际申请: PCT/US2012/000179 2012.03.29
- 国际公布: WO2012/134601 EN 2012.10.04
- 进入国家日期: 2013-11-29
- 主分类号: H01J37/302
- IPC分类号: H01J37/302 ; H01J37/317
摘要:
本发明涉及一种用于当离子束在工件(304)的表面上扫描时改变离子束的横截面形状(308a、308b、308c)以产生具有改善的离子束电流轮廓均匀度的时间平均离子束的方法和装置。在一个实施例中,当离子束在工件的表面上移动时,改变离子束的横截面形状。离子束的不同横截面形状分别具有不同的束轮廓(例如,在沿着束轮廓的不同位置处具有峰值),使得快速地改变离子束的横截面形状导致平滑工件所受到的束电流轮廓(例如,减少与单独的束轮廓相关联的峰值)。由此产生的平滑束电流轮廓提供改善的束电流均匀度以及改善的工件剂量均匀度。
公开/授权文献
- CN103582927B 利用动态束成形进行改善均匀度控制的方法和装置 公开/授权日:2016-08-17